| Numéro |
Photoniques
Numéro 112, 2022
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| Page(s) | 37 - 42 | |
| Section | Dossier : Procédés lasers | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/photon/202211237 | |
| Publié en ligne | 4 mars 2022 | |
L’émergence de procédés d’écriture laser 3D dans les technologies silicium
Aix-Marseille Université, CNRS, Laboratoire Lasers, Plasmas et Procédés Photoniques (LP3), Marseille, France
Les lasers femtosecondes sont à la base des technologies d’écriture 3D permettant l'intégration de nombreuses fonctionnalités micro-optiques, fluidiques et mécaniques à l'intérieur des matériaux diélectriques transparents. Cependant, des défis importants restent à relever pour transposer ces technologies dans le silicium et les semiconducteurs avec les nouvelles sources infrarouges intenses. La forte non-linéarité de propagation inhérente aux semi-conducteurs limite intrinsèquement la localisation de l'énergie lumineuse à un niveau en dessous des régimes d’écriture dans les configurations conventionnelles. L’émergence récente de solutions à ce problème ouvre de nouveaux champs d’applications notamment dans la photonique sur silicium.
© Les auteurs, publié par EDP Sciences, 2022
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