L'écriture laser 3D dans le silicium enfin possible

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Published on 22 June 2018

Modifier localement la structure d'un matériau massif à l'aide d'un laser femtoseconde, comme on sait le faire dans le verre ou dans des polymères, est désormais possible dans le silicium. Les chercheurs du laboratoire Lasers, plasmas et procédés photoniques ont réalisé leur expérience avec un laser dans l'infra-rouge émettant des impulsions de 60 femtosecondes. Le faisceau était focalisé au centre de sphères de silicium de 2 millimètres de diamètre. Ce dispositif a permis de réaliser une hyper-focalisation du faisceau, provoquant une variation locale de l'indice de réfraction du matériau. Ce résultat permet d'envisager de modifier de manière contrôlée l'indice de réfraction à l'intérieur du silicium, afin de créer des architectures en 3D nouvelles pour la photonique (guide d'ondes, micro-lentilles...).

M. Chanal et al., Nature Communications, https://doi.org/10.1038/s41467-017-00907-8